Tin tức & Sự kiện

2018年10月，PHI-CHINA受邀参加第九届中国国际纳米技术产业博览会（以下简称纳博会），并在胜科纳米（苏州）有限公司举办的研讨会上发表演讲。研讨会的主题为分析测试方法的应用。PHI-CHINA的执行总监叶上远先生就“软/硬聚焦X射线源相结合的商品化XPS仪器”这一主题发表演讲，并详细介绍了PHI Quantes，PHI Quantes装备了双单色仪，分别用于产生单色化并且可扫描的Al K-Alpha 和 Cr K-Alpha X射线。两种类型的X射线都具有数十微米的空间分辨率和成像能力。当这两种X射线组合成一台XPS系统时，可为研究人员提供灵活的检测深度信息的方式，解决了一个在实际分析中常遇到的问题，即当需要分析的样品表面覆盖了太厚的污染物导致没有有效数据的问题。   PHI-CHINA自2009年起是ULVAC-PHI在中国的唯一代表。我们一直努力推广ULVAC-PHI最佳的表面分析仪器，并向所有表面分析仪器用户提供最优质的售后服务。   纳博会晚宴

PHI-CHINA热烈祝贺 “第七届中国二次离子质谱会议”（The 7th Chinese National Conference On Secondary Ion Mass Spectromertry,SIMS-China VII）于2018年10月8日至12日在苏州成功举办。该会议由中国真空学会、中国电子学会电子材料学分会主办，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所真空互联实验室承办。SIMS会议每两年举办一次，清华大学著名的二次离子质谱专家查良镇教授是该会议的倡议者和创办者。   ULVAC-PHI公司的漆原宣昭先生（Nobuaki Urushihara）、柴崎琢自先生（Takuji Shibasaki）、Shinichi Iida先生、Hsunyun Chang女士和Ashley Ellsworth女士专程来华参加此次会议，同时PHI-CHINA公司的执行总监叶上远先生、凌媚女士、张伟先生和朱润德先生也一同参加。   致力于二次离子质谱科学研究与人才培养，大力发展SIMS技术在中国的应用，推进与国际SIMS领域的深入交流。   Ashley Ellsworth女士在会上就“二次离子质谱与质谱的串联成像来表征有机和无机材料”进行了一次非常有趣的讨论。她用两个例子来解释这个新兴的方法，其中一个案例讲述的是研究亚马逊蜻蜓的翅膀。结合新开发的串联质谱连用技术，Tof-SIMS将在生物学领域再一次取得突破。   多年来，SIMS已成为世界上非常强大的分析技术，帮助研究人员学术研究与技术支持。而中国的SIMS协会快速成长为世界上最大的SIMS协会之一。在2017年，波兰国际SIMS会议上，中国参与人数创历史新高。我们相信SIMS技术将继续在中国市场发挥更重要的作用，同时中国也将成为SIMS最重要的市场之一。   PHI-CHINA是全球唯一一家生产XPS、AES、Tof-SIMS、Dynamic-SIMS等全系列产品的表面分析仪器制造商，也是本次活动的固定赞助商。   SIMS会议合影   Ashley Ellsworth博士介绍质谱串联的新的表征材料方法   SIMS会议合影，从左至右分别是：Shinichi Iida先生，Nobuaki Urushihara先生，Ashley Ellsworth女士，Takuji Shibasaki先生，Hsunyun Chang女士，叶上远先生，张伟先生

2018年9月2-5日，中国科学技术大学国家同步辐射实验室在安徽合肥成功举 “同步辐射谱学在能源材料中的应用”国际学术研讨会。近100位世界各地的学者参与此次会议。中国科学技术大学（以下简称“中科大”）是世界上为数不多的拥有同步辐射装置的单位之一。而多年来，中科大同步辐射实验室在各个研究领域也做出了巨大的贡献。   PHI-CHINA荣幸作为赞助商之一，被邀请参与此次会议。我们的执行总监叶上远先生也有幸在研讨会上向参会者介绍我司最新研发的硬X射线光电子能谱仪——PHI Quantes。   PHI Quantes利用铬（Cr）作为硬X射线的激发源，其能量为5414.9eV。与常用的铝（Al- K-Alpha）激发源的光电子能谱仪比起来，PHI Quantes能提供3倍的深度方向信息。除此之外，PHI Quantes提供的Cr硬X射线能够聚焦到数十微米范围来扫描指定区域。这为我们未来的XPS分析技术的开发提供了一些令人感兴趣的思路。   PHI-CHINA再次祝贺中国科技大学和朱俊发教授举办的本次研讨会取得圆满成功，并希望将来我们有更多的机会与中国科技大学合作。   与会人员合影

中国材料大会于2018年7月在美丽的海滨城市厦门召开。数百家公司参与此次展会，并在会上展示了他们用于材料研究的最新技术。   PHI-CHINA作为表面分析技术领域的供应商之一，参与了此次展会。在本次展会中，有一个海报展览活动，令人意想不到的是，有超过40张海报利用了表面分析技术来表征某些材料的特性，例如XPS（X射线光电子能谱仪）和AES（俄歇电子能谱仪）等设备，给科研和产品开发上提供莫大的帮助，也印证了在材料研究中表面分析技术的重要性。   今年是PHI-CHINA连续第四年参与该展会。我们的执行总监叶上远先生有幸在本次展会上就“串联质谱——新的材料表征方法”该主题发表演讲，详细介绍了串联质谱表征方法与飞行时间二次离子质谱表征方法。传统的飞行时间二次离子质谱已然有很多优势，如其能够检测氢元素、高达PPM甚至PPB的检测限、快速的平行检测以及亚微米级的空间分辨率。当加入新的串联质谱之后，飞行时间二次离子质谱可精确的区分高质量（>200amu）的峰位和其分子结构。这是表面分析领域的又一项重要技术成就。   PHI-CHINA将一如既往地全力开拓中国市场，为广大用户提供最优质的表面分析仪器和售后服务。我们祝愿中国材料大会继续取得更大的成功，同时也为我们每年能参与展会而感到自豪。   叶上远先生拍摄于中国材料大会（厦门）   叶上远先生主题为“串联质谱——新的材料表征方法”的演讲   叶上远先生与与会人员交流答疑

第二届清华大学深圳研究生院表面分析技术应用研讨会暨培训班于2018年3月22至23日在清华研究生院的报告厅成功举办。此次培训班由清华大学深圳研究生院主办，ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办。来自清华大学研究生院的师生及国内各高校相关专业的老师与专家共计200余名业界人士参加了此次培训。   此次培训班跟第一屆一樣，也是以“研讨会+培训课”的模式进行。在研讨会上，ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士、漆原宣昭教授和台湾中央研究院薛景中教授作为特邀嘉宾，为参会人员介绍了表面分析最新技术和应用，使得参会者更深刻地了解到表面分析工具可提供讯息之多、可应用领域之广；培训课程的特邀嘉宾则是来自PHI（China）的执行总监叶上远先生，他为参会者带来的分享是MSMS Tof （Tandem MS）串联质谱在 Tof-SIMS 表面分析技术的突破和广大应用等内容。此外，张熏匀博士和叶上远先生还在整个培训期间提供了全程技术咨询，两位专家就与会人员关注的光电子能谱新研究方向、性能以及相关技术应用问题，为参会的各位师生、专家进行了逐一解答。   会议中设置的展台   高德中国区总监叶上远正在作专业的报告   大合照  

2017年8月10日，由PHI-China高德英特（北京）科技有限公司主办的“ULVAC-PHI表面分析应用与技术用户会”于汕头大学圆满结束。此次会议有清华大学、南京大学等国内各高校相关专业的多位老师与专家及学生参加.   会议开始，PHI（China）的执行总监叶上远先生首先致辞，欢迎全国从事表面分析研究与分析的新老朋友共聚一堂，共同探讨XPS的前沿发展、分享最新应用、使用仪器的心得。随后就PHI XPS粉末微区分析表征上的最新研发进展做了详细的报告，并对“IPES 反光电子能谱UPS联用的应用”和“ULVAC-PHI 仪器多种联用技術”分别做了专题报告，得到了与会者的一致认可。 此外，此次会议还特邀台湾中央研究院薛景中先生就“Ion gun co-sputtering XPS Applications X” 做了相关专题报告及学术探讨。   作为嘉宾的ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自先生就如何进行更好使用 “ULVAC-PHI Ellipsometer 椭偏仪”进行详细介绍和说明。另一位嘉宾ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士则对“Tof-SIMS 最新材料应用”相关研究进展做了细致详尽的讲解；并与会者分享“ XPS和AES数据处理技巧”，同时就大家一些问题做了热烈、充分的讨论。   与会者一致认为，通过此次用户会，对PHI公司及其产品有了更加深入的认识与了解，对科研过程中碰到的一些问题也有了新的思路与方法。 我们也感谢各位与会者的参与和支持，希望通过用户交流会，为原厂、用户和学校及科研机构搭建的技术交流和共享平台，在此平台中，老师们对相关领域的探讨碰撞出更多的思维火花，并能在以后的科研中取得更多的新成果。 PHI与XPS研究者共同进步！   PHI（China）的执行总监叶上远先生在作详细报告   ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自先生正在作专业的报告   ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士正在作专业的报告

致各位老师、专家和单位人员：   首先，诚挚地感谢各位一直以来对PHI的信任与支持！正是得益于来自各方的提携和帮助，PHI中国的业务才得以不断发展与壮大。一路走来，感谢有您！   PHI 在中国的业务发展过程中一直秉承着“让中国用户享受到全球一流的表面分析技术专业服务”这一理念。PHI不仅为中国用户带来了世界一流的产品和技术，更持续致力于促进用户间技术交流与提升，分享推广最佳实践成果，优化解决方案，从而使得PHI表面分析产品的用户不仅在售后服务上免除了后顾之忧，更能享受到一流的应用技术支持、培训交流、行业互动等增值服务。由PHI发起的表面分析应用与技术用户会议正是PHI全力打造的这样一个交流平台。   继2016年成功重新举办用户会议以来，该会议得到了与会各方的好评，取得了良好的用户反馈。在此，我们诚邀PHI的各位新老客户莅临高德公司和ULVAC-PHI公司在汕头共同举办的“ULVAC-PHI 表面分析应用与技术用户会议”（2017年8月10日，中国汕头大学）。本次会议将继续为原厂、用户和学校及科研机构搭建技术交流和共享平台。   现就本次会议的相关安排通知如下：   一、会议形式及内容 • 仪器使用和数据处理培训班 • ULVAC-PHI 表面分析技术最新发展和应用   二、重要时间、地点和会议安排   2017年8月09日 - 全天报到 报到地点: 汕头大学学术交流服务中心 (ACC)   2017年8月10日   ULVAC-PHI 表面分析应用与技术用户会议 2016年8月10日 - 9:00am – 9:15am  -  会议开幕致辞  9:15am – 9:45am  -  PHI XPS粉末微区分析表侦上的突破  9:45am – 10:15am  -  IPES 反光电子能谱和UPS联用的应用  10:15am – 10:40am  -  茶歇  10:40am – 11:10am  -  ULVAC-PHI Ellipsometer 椭偏仪  11:10am – 11:40am   -  Tof-SIMS 最新材料应用  11:40am – 12:00pm  -  ULVAC-PHI 仪器多种联用  12:00pm – 13:30pm  -  午餐时间  13:30pm – 15:00pm  -  XPS和AES数据处理技巧  15:00pm – 17:30pm  -  用户讨论时间           18:30pm          -  晚宴   三、会议收费 和 住宿安排 会议参会免费,并招待用餐。住宿建议安排于汕头大学学术交流服务中心(ACC)或汕头大学专家公寓, 住宿费用自理。如需帮忙订房,请与我们联系。          (1) 汕头大学学术交流服务中心(ACC)        Administrative Department, Shantou University Academic Conference Centre        标准间（双床）：441元(不含早)         标准间（大床）：441元(不含早)         豪华大床房：476元（不含早）        联系电话Tel：0754-82905103        邮箱Email：stuacc@stu.edu.cn        地址Add：中国广东省汕头市大学路243号          (2) 汕头大学专家公寓        双人间：160元（不含早）        联系电话Tel：0754-86503146        邮箱Email：zjgy1@stu.edu.cn   五、联系方式                                联系人：凌媚（手机 186 1249 8200，邮箱 may.ling@coretechint.com） 潘剑南（手机 186 1230 078，邮箱 nice.pan@coretechint.com)林文俊（邮箱 michael.lam@coretechint.com) 公司电话：010-62519668 公司传真：010-62513509   欢迎各位老师、专家和单位人员，报名参会。 附件一：《高德公司 邀请函》附件二：《报名表》 请将填妥报名报发送至michael.lam@coretechint.com。   2017年8月11~13日 将为在汕头大学汕头检验检测学会承办的2017全国表面分析科学与技术应用学术会议。ULVAC-PHI和高德公司将继续全程参与，也诚邀各位老师和专家们一同共襄盛举。   高德英特（北京）科技有限公司 ULVAC-PHI Incorporated

“2017年5月18日，由清华大学材料中心主办、ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办的“表面分析技术俄歇电子能谱仪应用研讨会暨培训班”在清华大学成功举办。此次活动吸引了来自清华大学的师生及国内各高校相关专业的多位老师与专家。   此次培训班以研讨会与培训+实验室参观演示的模式进行。 在研讨会上，ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士作为特邀嘉宾，为参会人员介绍了俄歇电子能谱仪（AES）的原理及应用范围；来自PHI（China）的执行总监叶上远先生则为参会人员介绍了扫描俄歇纳米探针（PHI710）的功能及特点，让参会者更深刻地了解在材料分析研究中如何最有效的利用俄歇电子能谱仪（PHI710）实现材料分析测试；此外，EBSD公司也在会上介绍了EBSD应用。   “PHI（China）的执行总监叶上远先生在下午的培训课中进行了MultiPak的演示，并就参会者提出的相关问题进行了一一解答。 提问答疑结束后，作为此次活动的收官环节，PHI（China）的主任工程师辛国强先生带领参会者参观了清华大学材料学院实验室的扫描俄歇纳米探针（PHI710）并进行了现场演示实验。   作为中国表面分析市场的领军企业，PHI在中国区业务拓展过程中一直在不断探索如何让中国用户享受到全球一流的表面分析技术专业服务。从用户角度出发，切实加强售后服务和用户体验，正是PHI一直秉持的理念。在这一理念的引导下，PHI不断加大售后及运营管理方面的投入，此次活动即是PHI践行该理念的系列举措之一。PHI旨在通过这样的活动和投入，使得购买PHI产品的用户不仅在售后服务上免除了后顾之忧，更能够享受到一流的技术支持、培训交流、行业互动等产品以外的增值服务。PHI将继续致力于促进用户间技术交流与提升，分享推广最佳实践成果，优化解决方案，为中国表面分析行业的发展竭诚尽智！   2017年5月18日，清华大学材料中心会议室，由陶琨老师做简短的会议致辞。   叶上远（Wensly.Yip）总监致辞   EDAX中国公司应用专家严琴舫介绍EBSD的功能和应用   ULVAC-PHI 亚洲区销售经理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自 致词   叶上远（Wensly.Yip）在做MultiPak的演示   辛国强（PHI-China主任工程师）带领与会者实验室参观、演示PHI710

“2017第十四届南京国际科学仪器及实验室装备展览会（ESEE）”于2017年4月14日-16日在南京国际展览中心举办，展会取得了圆满成功。   在此次展会上我司介绍了我司核心产品：飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、俄歇电子能谱仪（AES）、X射线光电子能谱仪（XPS），吸引了学校一线使用者、教师、科研项目带头人等莅临我司展位，并与之沟通交流，相互学习，使与会者对我司产品有了更充分的了解，也使得我司进一步了解和明确了用户需求。   ESEE 活动现场   高德公司在会议中设置的展台   高德中国区总监叶上远耐心细致地为观众们进行了答疑解惑

2017年4月6-8日，第十五届中国国际科学仪器及实验室装备展览会（CISILE2017） 在北京国家会议中心隆重举行。   此次展会汇聚了来自海内外众多知名企业参展，同时也吸引了来自业界各科研院所、院校的大批专业观众到会参观。我司在此次展会上全方位展示和介绍了我司核心产品飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、俄歇电子能谱仪（AES）、X射线光电子能谱仪（XPS），引发了与会观众的浓厚兴趣和高度关注。莅临我司展位的专业观众纷纷就产品的功能、性能并结合他们自身研究方向所遇到的问题向我司提出咨询，我司现场值守的技术人员则耐心细致地为观众们进行了答疑解惑，展位现场形成了“展示-交流-互动”的良好氛围。   本次展会为我司提供了与业界人士沟通交流的平台，也为我司提供了与各领域专家交叉学习的宝贵机会。我司在本次展会的成功亮相使得更多人了解到我司产品应用的广泛性，除材料分析领域之外，飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）、俄歇电子能谱仪（AES）、X射线光电子能谱仪（XPS）产品还广泛应用于医药、食品安全、生物科技等众多领域。   CISILE 活动现场   高德公司在会议中设置的展台   技术人员耐心细致地为观众们进行了答疑解惑