Tin tức & Sự kiện

清华大学深圳研究生院表面分析技术应用研讨会暨光电子能谱仪培训班于2017年3月31日至4月1日在清华研究生院的报告厅成功举办。此次培训班由清华大学深圳研究生院主办，ULVAC-PHI与PHI （China）高德英特公司共同协办。来自清华大学研究生院的师生及国内各高校相关专业的老师与专家共计200余名业界人士参加了此次培训。   此次培训班以“研讨会+培训课”的模式进行。在研讨会上，ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士作为特邀嘉宾，为参会人员介绍了表面分析最新技术和应用，使得参会者更深刻地了解到表面分析工具可提供讯息之多、可应用领域之广；培训课程的特邀嘉宾则是来自PHI（China）的执行总监叶上远先生，他为参会者带来的分享是关于光电子能谱仪数据分析的讲解，以及包装定性定量、分峰拟合、深度分析和图像处理方法等内容。此外，张熏匀博士和叶上远先生还在整个培训期间提供了全程技术咨询，两位专家就与会人员关注的光电子能谱功能、性能以及相关技术应用问题，为参会的各位师生、专家进行了逐一解答。   会议中设置的展台   ULVAC-PHI原厂科学家张熏匀博士正在作专业的报告   高德中国区总监叶上远正在作专业的报告

【第一轮通知】  高德公司 邀请函 清华大学深圳研究生院 表面分析技术应用研讨会暨光电子能谱仪培训班   清华大学深圳研究生院于2016年底完成PHI 5000 VersaPrboe-II扫描聚焦型X射线光电子能谱仪器（ULVAC-PHI,Inc.）的安装、调试工作，设备全部功能现已正式对外开放。光电子能谱仪被广泛应用于各类材料的研究中, 包括：有机发光体(OLED)、太阳能电池、锂电池、燃料电池、石墨烯、食品安全等。借助表面分析手段，可实现产品工艺改良和性能提高的目的，尤其光电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)都提供了材料的关键信息，是不可或缺的研究手段。目前，XPS可实现较高的空间分辨（＜10um）能力，配合团簇离子源的逐层剖析功能可实现多层有机/无机结构材料无损深度分析, 进一步提高了表面分析应用的深度和广度。此外, 配合样品传输管可使样品在真空或惰性气氛下转移和传输，有效地避免样品在转移过程中可能存在的污染。   为增进广大师生对XPS功能的了解，提高对XPS数据分析处理能力，清华大学深圳研究生院材料与器件检测中心将邀请ULVAC-PH原厂工程师及其中国代表公司PHI(China)高德英特(北京)科技有限公司相关工程师，针对该中心现有X射线光电子能谱仪仪器的功能和应用范围,开展一次技术交流活动。本次活动将分为两个主要部分：第一部分将以研讨会的方式进行,邀请ULVAC-PHI原厂科学家对表面分析最新的技术和应用作出讲解，让与会者再一次清楚的了解现今的表面分析工具可以提供怎么样的讯息，以应用在各种研究范畴上；第二部份以培训班进行，目的为提供参会人士如何对光电子能谱的分析数据进行进理、包装定性定量、分峰拟合、深度分析和图像处理的方法。活动详细安排如下:   一、会议时间、地点 会议时间：2017年3月31日 下午2:00 至 6:00  　　　　　2017年4月1日上午 9:00 至 下午 6:00 地点：清华大学深圳研究生院能源与环境大楼报告厅   二、会议安排   2017年3月31日　　 -　环境大楼报告厅 　　　　　　　　　　1:30pm ~ 2:00pm　-　报到时间 　　　　　　　　　　2:00pm ~ 2:10pm　-　研讨会开场, 领导致辞 　　　　　　　　　　2:10pm ~ 2:50pm　-　XPS 的多种应用讨论叶上远 (PHI China) 　　　　　　　　　　2:50pm ~ 3:30pm　-　ULVAC-PHI 科学家应用讨论报告 (ULVAC-PHI) 　　　　　　　　　　3:30pm ~ 4:00pm　-　小息时间, 仪器参观 　　　　　　　　　　4:00pm ~ 4:30pm　-　ULVAC-PHI 科学家 XPS 原理 (ULVAC-PHI) 　　　　　　　　　　4:30pm ~ 5:30pm　-　Live Demo 实时分析演示和讨论 5:30pm ~ 6:00pm　-　Q & A   2017年4月1日　　 -　环境大楼报告厅 　　　　　　　　　　9:00am ~ 10:15am　-　全谱/窄谱, 峰较正, 定性/定量分析, 灵敏因子 　　　　　　　　　　10:15am ~12 noon　-　分峰拟合, 峰形, 峰背景概念 　　　　　　　　　　1:30pm ~ 3:00pm　 -　分峰拟合复杂案例分析 　　　　　　　　　　3:00pm ~ 3:30pm 　-　小息时间 　　　　　　　　　　3:30pm ~ 5:00pm　 -　深度分析, 线扫瞄, 面扫瞄影像数据处理 　　　　　　　　　　5:00pm ~ 6:00pm　 -　Q & A   三、会议报名与收费                                研讨会会议免费。请以以下格式报名, 将报名信息填妥后发送邮件至: geng.huanran@sz.tsinghua.edu.cn 或电话联络：耿焕然: +86-15019479017 （0755-26036417）   参会人姓名： 单位名称： 联系电话：   (注：为合理安排会场，请大家提前报名，报名截止日期为2017年3月27日)。   高德英特（北京）科技有限公司 ULVAC-PHI Incorporated

2017先进功能材料及计算材料国际研讨会于2017年1月7至8日在深圳成功召开。该会议由清华-伯克利深圳学院（TBSI）、清华大学深圳研究生院共同主办。此次会议吸引了来自中国、美国、日本、香港等多个国家和地区200多位专家学者、高校师生和政界参与，从学术和产业化视角探讨先进功能材料和计算材料的研究进展，以及将两者结合促进相关产业发展的现状。   本次会议是清华-伯克利深圳学院（TBSI）主办的首次国际研讨会，在举办前期即获得了广泛关注和热情参与，研讨会将为国内外杰出科学家与企业家搭建一个交流与合作的平台，以推动先进功能材料及计算材料学的应用进程。高德英特PHI China公司有幸以参展商的身份获邀参会，包括公司中国区执行总监叶上远先生和高级销售经理鲁德凤都参加了本次会议, 并在此次大会上展示了光电子能谱(XPS)，俄歇能谱(AES)和飞行时间二次离子质谱(Tof-SIMS)等的最新技术和相关产品。而高级销售经理鲁德凤女士就这些产品的功能、性能和所涉及的相关技术应用问题，为现场的各位专家、教授进行了逐一解答。   高德公司在会议中设置的展台   2017先进功能材料及计算材料国际研讨会大会现场

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第三届亚洲粘土会议（The 3rd Asian Clay Conference）于2016年11月18日至20日在广州成功召开。该会议由中国科学院广州地球化学研究所主办，西南科技大学、中国矿物岩石地球化学学会、国家自然科学基金委员会及广州市科学技术协会协办。   此次会议吸引了来自海内外近百所知名高校及科研机构的250多名专家参会，我司有幸以参展商的身份获邀参会。结合此届会议主题“小尺度，大科学”（Small Size, Big Science）及大会研究讨论的方向——粘土地球科学、粘土与环境、粘土功能型材料、粘土纳米粒子和健康、粘土与微生物、分子模拟/表征技术的粘土矿物研究等，我司在此次大会上集中展示了TOF-SIMS产品。该产品引起了众多行业专家、教授的广泛关注。我司高级销售经理鲁德凤女士就该产品的功能、性能并结合与会专业人士研究中所涉及的相关问题，为现场的各位专家、教授进行了逐一解答。   此次会议给我司提供了一个与各国及各领域专家、学者进行沟通与交叉交流、学习的平台，不仅展示了我司的最新产品，也提升了我司在该领域的品牌知名度和影响力。   高德公司在会议中设置的展台   高级销售经理鲁德凤女士为现场的各位专家、教授进行了逐一解答

致各位老师、专家和单位人员：   高德将会在仪器讯息网上进行网络讲堂，讲者为高德的叶上远先生，题目是「飞行时间二次离子质谱仪在最新的MS/MS串联技术后的研究应用和突破」，现欢迎各位参加。   网络讲堂的详情如下： 　　　　　　　　　　日期： 2016年12月02日 (星期五) 　　　　　　　　　　时间： 早上十时正至十一时三十分 　　　　　　　　　　题目： 飞行时间二次离子质谱仪在最新的MS/MS串联技术后的研究应用和突破   内容简介： 飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS）一直被广泛应用在科研和工业领域中，例如在半导体的杂质分析、高技术的微观尺度材料分析以及聚合物和有机材料的剖析中。 TOF-SIMS在表面分析中虽然有着极高的表面灵敏度和亚微米级的空间分辨率等优势，但当每次检测一些添加剂和聚合物组成的混合物时都会面临如何正确解析数据和判定成分的实际困难。为了解决这个问题，ULVAC-PHI公司开发了配备有非破坏性串联质谱（MS/MS）的TOF-SIMS仪器，并将其应用到各种有机材料和生物应用当中。MS / MS的出现不仅使质谱分析变得更容易，而且在对分析结果的判定方面有了实质性的飞跃，不再是对分析结果的猜测，而是获得明确清晰的答案。在本次报告中，我们将详细介绍该仪器和新技术的基础原理及应用，让大家更全面、细致的了解该仪器如何在现今的科研工作中帮忙解决各种实际的问题。   如果有兴趣的话，可在 http://www.instrument.com.cn/webinar/meeting/meetingInsidePage/2218报名。   高德英特（北京）科技有限公司 ULVAC-PHI Incorporated

2016 ULVAC-PHI 国际销售会议于2016年10月11至14日在日本成功召开。ULVAC-PHI 国际销售会议每两年一次，销售团队来自世界各地，本届销售团队包括欧洲、美国、韩国、俄罗斯、马来西亚、菲律宾和香港等等。在这个会议上，高德多年来的努力得到ULVAC-PHI的认同，我们非常荣幸能收到ULVAC-PHI的奖座和赞赏。   ULVAC-PHI 的奖座   ULVAC-PHI 国际销售会议大合照

二次离子质谱仪（SIMS）是用来检测材料的一种仪器，而其中飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）更是重要的表面化学分析手段之一，可用于多种固体样品的直接分析。同时TOF-SIMS是一种非常灵敏的表面分析技术，可以精确确定样品表面元素的构成：通过对分子离子峰和官能团碎片的分析可以方便地确定表面化合物和有机样品的结构，配合样品表面的扫描和剥离，可以得到样品表面甚至三维的成分图，具有更高的分析精确度。   于2016年10月8日至11日在中科院大连化学物理研究院举行的“第六届中国二次离子质谱会议”（The 6th Chinese National Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry，SIMS），即是为推动我国二次离子质谱研究的发展而举办的会议，此次会议吸引了海外SIMS领域的专家及国内SIMS研究人员近百位参会。   第六届中国二次离子质谱会议是一个国际性的盛会。大会其邀请到一共一百多名国内外SIMS研究人员出席了会议，当中包括上届国际SIMS大会主席、英国国家物理实验室Ian Gilmore教授，美国分析化学杂志(Analytical Chemistry)副主编、瑞典歌德堡大学Andrew Ewing教授和日本京都大学Jiro Matsuo教授等等。另外，台湾中央研究院薛景中教授（Prof.Jing-Jong Shyue），ULVAC-PHI的饭田真一博士及高德PHI北京公司叶上远 (Wensly Yip)等与会专家就SIMS仪器的研发、理论发展及其在不同领域的开拓应用进行了精彩的专题报告（Prof.Jing-Jong Shyue,《Depth profiling of soft materials with cluster-atomic ion co-sputter》; 饭田真一博士,《Easy Compound Identification in TOF-SIMS By using Parallel Imaging MS/MS》; 叶上远 Wensly Yip,《Analyzer Acceptance Angle & The Advent of 3D Chemical and Molecular Imaging by FIB-TOF Tomography》）,并引发了参会人员的热烈讨论。   此次会议为我司与二次离子质谱科技界提供了一个学术、技术交流及合作的平台，使与会者更对我司最新产品有了充分了解，也使得我司进一步明确了二次离子质谱仪未来发展趋势和用户需求需求。   第六届中国二次离子质谱会议会议现场   高德中国区总监叶上远正在作专业的报告   ULVAC-PHI 分析室專門室長飯田真一正在作專業的報告

2016年9月，中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所（以下简称苏州纳米所）在苏州成功举办了2016表面分析技术光电子能谱仪应用研讨会。   此次研讨会汇聚了来自胜科纳米（苏州）、苏州晶湛半导体、宝钢研究院分析测试中心、大连理工大學、上海师范大学等业界同行及科研机构师生共五十余名精英。与会人员就光电子能谱的最新发展以及应用进行了深入的探讨和交流。此次会议还成功邀请清华大学测试中心李展平教授、台湾中央研究院薛景中教授、高德英特公司叶上远先生以及ULVAC-PHI公司漆原宣昭教授到会并分享了精彩的报告。   苏州纳米所是由中国科学院与江苏省人民政府等共同创建的国家研究机构，在表面分析行业内一直是科研方面的领军单位之一。作为此次研讨会的主办方，苏州纳米所对于ULVAC-PHI公司的研发能力和产品制造一贯给予充分的认可和肯定。在此次会议之前，苏州纳米所刚刚向ULVAC-PHI公司采购了多功能扫描式X射线光电子能谱分析仪（PHI5000VersaPraobe II）。苏州纳米所表示将充分利用自己的技术优势，最大限度的发挥该设备的功效。   2016表面分析技术光电子能谱仪应用研讨   高德叶上远先生正在作專業的報告   ULVAC-PHI 漆原宣昭博士正在作專業的報告

2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议于2016年8月11-12日在云南昆明成功举办。100余名从事表面分析技术研究与应用的专家学者参加了会议。该会议由高校分析测试中心研究会、全国微束分析标准化技术委员会表面分析分技术委员会、北京分析测试协会表面分析专业委员会主办，昆明理工大学分析测试研究中心、国家大型科学仪器中心─北京电子能谱中心、昆明红源会展有限公司协办。   作为业界设备制造商代表，高德叶上远先生、ULVAC-PHI 公司宮山卓也先生和高德总经理陈文征博士获邀参会并在会上做了精彩的分享。叶上远先生的报告以“The study of how primary beam affect the analysis result in surface analysis”为主题；宮山卓也先生的报告主题则是“Introducing the newest MS/MS capability in the Time-of-Fight SIMS”。     相关新闻发布: 仪器讯息网   2016全国表面分析会议召开 应用领域与技术不断拓展 http://www.instrument.com.cn/news/20160815/199180.shtml   “让用户满意最重要”——访高德英特公司总经理陈文征博士 http://www.instrument.com.cn/news/20160810/198895.shtml   2016年全国表面分析科学与技术应用学术会议大合照   高德总经理陈文征博士正在作專業的報告   高德叶上远正在作專業的報告   ULVAC-PHI 的宮山卓也先生正在作專業的報告